中企订购了多台光刻机，原则上来自于ASML

中企订购多品种光刻装置，这一次一直不能国产的碰巧！

在系统性约束放任，华为所遭遇的困境，让国外的大公司彻底确信了国产新科技的重要性，特别是在半导体器件课题，国家也逐步有所增加了其所的融资，在这三年的时间里，每年新注册的半导体器件大公司都陷万家。

中华人民共和国作为亚洲地区芯片耗用最多的商品，但至今难以解决问题芯片的国产化，就算是28nm的成熟传统工艺，也还是要依赖国内的新科技，而疑虑就出在内部电子元件上，光刻装置成为了难以逾越的一道鸿沟。

在经过中科院以及国外制造商的不断帮助放任，国产半导体器件电子元件也诞生了真实有效的创出，其中表现最出众的就是中微半导体器件了，其研发的5nm上会装置，俨然尝试进入到了宏达电的装配。

而汉口电子新科技的表现也同样出众，去年富士康在青岛新建了一座工厂，这并不算什么稀奇的事，但其首创了摄像机国产的光刻装置电子元件，直接吸引了国外外的眼球。

这台电子元件是由汉口电子新科技研发的IC后道光刻装置，虽然使用的一般性至少是最后的封装阶段，但这却是摄像机完全自主研发的国产电子元件，同时还获取了富士康的支持，这些因素联结上去，其涵义就不一样了。

在中企启动新科技自主研发之后，也出现了许多硬气的大公司，从此前的大疆无人装置、到后面的海康威视，再到从前的科大讯飞，这些大公司都遭遇到了老婉约束，但似乎不能受到影响到它们的实际经营状态。

而其中的缘故就在于，这些大公司仍然解决问题了新科技的自主化，并且大量采用了国产的IT，因此毕竟就不用担心老婉系统性约束，但在芯片课题可就不能这么硬气了，这一次国产电子元件堪称是颗粒无收。

光刻装置是制做到芯片最内部的电子元件，虽然有很多家大公司都在做到光刻装置，但用于14nm以下芯片制做到的EUV光刻装置，亚洲地区范围内只有ASML必须制做到，而国外从前获取DUV光刻装置都艰难，越来越遑论最新科技的EUV光刻装置了。

也亦然因为如此，约束住了国产芯片的发展，目前最尖端的传统工艺至少为14nm，一直难以大幅度完成创出，而汉口电子新科技作为国外最新科技的光刻装置制造商，目前的水平一直处于90nm上，虽然此前以前传出要交付28nm的光刻装置，但直到从前一直不能确切的传言传出。

要知道摄像机光刻装置所所需的配件就大约10万个，还所需用到二十多个国家尖端的新科技，能把这些新科技联结上去仍然不容易了，越来越遑论把他们配备到摄像机电子元件上了，因此国产光刻装置一切都是完成创出，赞许是要导致着非常大的解决办法。

面对庞大的中华人民共和国商品，ASML一直都不能放弃过，以前都在登记其所的许可证，此前也仍然恢复供货中芯国际，但至少限于相对来说差劲的DUV光刻装置，对于新科技的EUV光刻装置，就算是外企也难以将其带入中华人民共和国商品。

但好传言就是，除了EUV光刻装置除此以外，ASML似乎仍然逐步恢复了对于国外产商的供应，而根据汉口吉塔半导体器件的增购表上，我们也必须看得出大概了，在光刻装置上，国产IT可以真是颗粒无收。

在看到这样的传言之后，很多很多人看来这家半导体器件大公司不支持国产IT，但如果从实际角度出发的话，我们也必须理解这样的做到法，毕竟新科技的需求量赞许是要与其所的电子元件联结的，不适合于的配套电子元件只会受制于陷入僵局。

不过根据增购表开展分析，这一次积塔半导体器件增购了1台KrF光刻装置，和3台i-line光刻装置，而这两种电子元件汉口电子新科技，很早之前就仍然解决问题了新科技创出，其所的系列产品也仍然走进了国产IT，这就看似让人看来诡异了。

但通过越来越深层次的分析，我们也必须找到其中的疑虑，目前汉口电子新科技的KrF光刻装置的精度至少为90nm，综合考虑到良品率、系统性效能上的优势，最后选择了ASML也就不诡异了。

我们确实越来越信念地去看成这个疑虑，越来越换国产IT是不能疑，但国产IT的电子元件制造商，赞许也要拿出其所符合商品承诺的新科技，毕竟大公司的本质是为了赚钱，不可能为了后盾国产IT，而去做到亏本的抵押。

因此整个疑虑的关键点，就在于加速创出国产新科技上，只要系列产品获取了认可，依靠国外庞大的商品，后续赞许有赚不完的钱，但只想投装置取巧的那些大公司，赞许是给予什么坏处的，已对你们是怎么看的呢？